在晶體管、集成電路生產(chǎn)中，純水主要用于清洗硅片，清洗的目的在于清除表面污染雜質，包括有機物和無機物，另有少量用于藥液配制，硅片氧化的水汽源，部分設備的冷卻水，配制電鍍液等。集成電路生產(chǎn)過程中的80%的工序需要使用高純水清洗硅片，水質的好壞與集成電路的產(chǎn)品質量及生產(chǎn)成品率關系很大。河南萬達環(huán)保生產(chǎn)的超純水設備用于硅片生產(chǎn)等電子半導體行業(yè)，能滿足客戶的用水要求。
電子半導體行業(yè)用純水設備工藝介紹：
1.原水→原水加壓泵→多介質過濾器→活性炭過濾器→加藥裝置→精密過濾器→高壓泵1→一級反滲透→中間水箱→高壓泵2→二級反滲透→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→微孔過濾器→用水點
2.原水→原水加壓泵→多介質過濾器→活性炭過濾器→加藥裝置→精密過濾器→高壓泵1一級反滲透機→中間水箱→中間水泵→EDI系統(tǒng)→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→微孔過濾器→用水點
河南萬達環(huán)保電子半導體行業(yè)用純水設備產(chǎn)品特點：
1.連續(xù)運行產(chǎn)水質穩(wěn)定品質更佳。
2.系統(tǒng)運行可靠性穩(wěn)定。
3.運行成本低。
4.占地面積小。
5.自動化程度高。
6.操作及維護簡單，無需接觸酸堿。
7.使用安全及環(huán)境良好。
8.無污水排放，無環(huán)境污染。
河南萬達環(huán)保電子半導體行業(yè)用純水設備產(chǎn)品參數(shù)：
1.電導率：2-10μS/cm（25℃）
2.PH值：6.5－9
3.水溫度：5～35℃
4.總硬度：<0.5ppm
5.有機物：<0.5 ppm,TOC為零
6.氧化物：≤0.05ppm
7.鐵、錳：<0.01ppm
8.二氧化硅：<0.05 ppm
9.二氧化碳：<5ppm
